n型4H-SiC衬底的外延片

对于外延片两个关键参数厚度和载流子浓度,目前n型4H-SiC衬底的外延片批量工艺水平如下:面内厚度均匀性≤3%,面内载流子浓度均匀性≤5%,厚度容差为±6%,浓度容差为±10%。
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中科汇珠已掌握高质量SiC外延片的量产关键技术,外延片的膜厚和载流子浓度面内及片间均匀性已达到国内一流水平,缺陷控制技术比肩国内外主流外延厂商。


中科汇珠自2021年以来陆续通过了4吋650V/10A规格肖特基二极管(SBD)、6吋650V/60mW规格金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)、6吋1200V/30A规格SBD以及6吋1200V/26mW规格MOSFET的流片验证,良率比肩国内一流水平,量产SiC外延片的质量获得了下游头部器件厂商的高度认可。


中科汇珠6吋外延片



4/6吋外延片规格参数